🔧 반도체 Etch 챔버 압력 vs APC 밸브 포지션: 수식‧모델링 요약 목표고정된 가스 유량 (예: 100 sccm)에서 챔버 압력 P와 APC 밸브 개도 θ 사이의 관계를 실무에 바로 쓸 수 있는 형태로 정리합니다. 1. 기본 가정과 변수 정의기호 의미 단위(권장)Q가스 유량 (mass flow rate)Torr · L / s → sccm에 Q = (sccm) × 760 / 60 변환P챔버 정상상태 압력TorrSₚ메인 펌프 정격 펌핑 속도L / sC(θ)APC 밸브 컨덕턴스L / sS_eff유효 펌핑 속도L / s 2. 1차 원리로부터의 핵심 식2‑1. 질량 보존 (기본식)Q = P × S_eff(가스 유입량 = 챔버에서 배출되는 가스량) (agilent.com) 2‑2. 유효 펌핑 속도펌프..
